掩模式激光打標機:

掩模式激光打標機的組成主要有激光器系統、掩模板和聚焦透鏡三部分。掩膜板上有雕空的圖形，激光器系統發出的激光束均勻地照射到制作好的掩模板上，部分激光就從雕空的位置投射過去，然后經過聚焦透鏡后聚焦到物體表面雕刻出圖形。掩模式澈光打標機的最主要的優點就是激光脈沖發出一次就能打出一個完整的標記，因此打標速度很快，但缺點是打標的靈活性極差，進行不同標識的打標就需要制作不同的掩模板。掩模式激光打標機適合于高速、重復打標的應用。